Die gesinterten Hartmetallteile besitzen eine charakteristische Sinterhaut. Für eine Vielzahl von Anwendungsfällen ist jedoch eine glatte Oberfläche und eine geometrisch sehr genau bestimmte Form erforderlich. Deshalb wird ein Großteil der gesinterten Rohhartmetallteile einer Weiterbearbeitung unterzogen.

Diese Finishbearbeitung erfolgt durch:

1.   abrasive Bearbeitung (Schleifen, Läppen, Polieren, Honen, Bürsten, Strahlen)

2.   funkenerosive Bearbeitung (Fadenerodieren, Senkerodieren)

3.   spanende Bearbeitung (Drehen und Bohren Co-reicher HM-Sorten)

4.   elektrochemische Bearbeitung (elektrochem. Schleifen, Elysieren)

  

Mit diesen Verfahren werden Oberflächenqualitäten erreicht, die den bestehenden Anforderungen an die Rauhtiefe gerecht werden, z.B. R_a = 0,1 µm. In vielen Fällen ist eine solche Rauhtiefe jedoch noch nicht ausreichend. Durch nachgeschaltete Feinstschliff-, Hon-, oder Polierverfahren werden Rauhigkeiten bis hin zu R_max £ 0,1 µm erreicht.

Hartmetall-Schneidstoffe, aber auch Hartmetallteile für den Verschleißschutz werden gegebenenfalls mit dünnen Hartstoff-Beschichtungen weiter veredelt. So werden ca. 2/3 aller Zerspanungshartmetalle in beschichteter Form eingesetzt.

  

In dem als CVD-Verfahren (Chemical-Vapor-Deposition) bekannten Verfahren werden die Hartmetall-Teile mit reinen Hartstoffen wie z.B. TiC, TiCN, TiN und Al₂0₃ einzeln oder mit mehrlagigen Schichtsystemen beschichtet. Die Schichtdicke beträgt je nach Anwendung 5…12 µm. Um die beim normalen CVD-Verfahren entstehenden Zähigkeitsverluste des Hartmetallsubstrates zu minimieren, erfolgt die Beschichtung heute hauptsächlich im Temperaturbereich von 750 bis 950°C (Niedertemperatur CVD). Auch die Form der plasmagestützten CVD Beschichtung wird angewendet (PCVD-Verfahren).

Bei wesentlich niedrigeren Temperaturen von £ 500 °C werden die Hartstoffschichten mit den PVD-Verfahren erzeugt. Bei diesen Prozeßführungen wird die Metallkomponente (Ti, Al) auf physikalischem Wege durch Hochvakuum und Plasmaunterstützung in die Dampfphase überführt und mit C- und N-haltigen Gasen zur Hartstoffreaktion gebracht, die auf der Substratoberfläche kondensiert. Die Schichtdicken erreichen im allgemeinen 1 bis maximal 5 µm.

Auch mit diesem Verfahren auf Hartmetall abgeschiedene Diamantschichten (sogenannte DLC-Schichten) spielen in den letzten Jahren eine immer stärkere Rolle.

  

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